获嘉县河多网络传媒有限责任公司财联社4月20日电，台积电表示，正在南京扩大28纳米制程，仍见到先进制程供不应求。相信存在长期需求，将继续投资，这是欺诈策略，台积电只生产中芯国际也能生产的28纳米制程，我们不能生产的芯片，台积电也不卖给我们，既压制国内芯片发展，又赚钱得利。
1、硅基芯片物理极限是七纳米,为何台积电却依然能做出五纳米的芯片去年，台积电董事长张忠谋应交大EMBA之邀，发布演说的时候表示：2017年，台积电制程已演进至10nm，2018年要量产7nm，5nm则将依序接后。3nm的发展时间基本上已经有一定的计划了；更加可怕的是他表示2nm，强调再往2nm以下，难度相当高。还要再过几年才能确定是否有2nm以下的可能。张忠谋是台积电董事长，也是全球半导体行业顶级的大佬之一，他说话是很有分量的。
很可能大家不再需求更加低的nm等级了，而是找另外的材料。但是目前来说，还没有比硅更好的、更加适应量产和使用的材料来做半导体。如果低于2nm，那就是行业要有革命性的发明和理论改进，这才可能做到更精细了。所以当工艺制程突破物理极限之后，再想寻求新的制造技术就不能单纯的从减小栅长上做文章了，毕竟已经小到了7nm，再加入各种其他辅助装置减少漏电问题也会得不偿失。
2、华为用了台积电几代10纳米芯片华为用了台积电二代10纳米芯片华为的订单是以5nm和12nm工艺为主，台积电7nm产能目前是满载状态，没有多余的产能给华为，而5nm的产能可以给华为50%左右，大概有2.5万片晶圆。每片晶圆以1.5万美元计算的话，这批订单的总额就达到了3.75亿美元。
3、台积电7纳米光源波长EUV光刻采用波长为1014nm的极紫外光作为光源，可使曝光波长直接降到13.5nm，研发，推动更先进工艺。台积电今天宣布，N7 7nm 工艺已经大批量供应给客户，这是该公司乃至全产业首个商用EUV极紫外光刻技术的工艺。EUV光刻采用波长为1014nm的极紫外光作为光源，可使曝光波长直接降到13.5nm，研发，推动更先进工艺。
4、台积电光刻机几纳米目前台积电芯片已经可以做到大规模量产5nm芯片并且计划在2022年实现3nm产品的大规模量产。台积电是全球最大的芯片代工制造商，其芯片代工客户包括苹果、高通等许多科技公司，成立于1987年，是全球第一家专业积体电路制造服务（晶圆代工foundry）企业，总部与主要工厂位于中国台湾的新竹市科学园区。
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